2” ve 3” inç alttaşlar üzerinde epitaksiyel büyütme yapabilme
Ulaşabileceği maksimum sıcaklık değeri 1450 °C
Paslanmaz çelik gövdeden oluşan yatay (horizontal) reaktör
Radyo frekans (RF) ısıtma sistemi
Trimetil galyum (TMGa), trimetil alüminyum (TMAl) ve trimetil indiyum (TMIn) gazları III grubu için metal organik; Arsin (AsH3), Fosfin (PH3), Amonyak (NH3 ) gazları V grubu için hidrit kaynakları
Dimetil çinko (DMZn), karbon tetrabromit (CBr4), biscyclopentadienemagnezyum (CBr2Mg) ve (SiH4) katkı kaynakları
Büyütme esnasında yerinde yansıma ve yüzey sıcaklığı ölçümü yapan LUXTRON kontrol birimi
Uygulama:
Nitrat ve arsin/fosfin tabanlı filmlerin epitaksiyel olarak büyütülmesi.
